Chuyên gia nhận định các công cụ sản xuất chip mới của Trung Quốc không có gì đột phá

0:00 / 0:00
0:00
  • Nữ miền Nam

Nhiều nhà phân tích cho rằng hệ thống in thạch bản mới của Trung Quốc có thể chưa đủ khả năng sản xuất chip với độ chính xác ở mức 8nm như đã tuyên bố.

Một kỹ sư lắp ráp làm việc trên hệ thống quang khắc TWINSCAN DUV tại ASML (Ảnh: SCMP)
Một kỹ sư lắp ráp làm việc trên hệ thống quang khắc TWINSCAN DUV tại ASML (Ảnh: SCMP)

Ngành công nghiệp bán dẫn của Trung Quốc đang có những bước tiến đáng kể trong việc phát triển các công cụ quang khắc trong nước, tuy nhiên, theo đánh giá của các chuyên gia, quốc gia này vẫn còn một khoảng cách lớn để bắt kịp công nghệ tiên tiến của ASML - công ty Hà Lan đang dẫn đầu trong lĩnh vực này.

Đầu tháng này, Bộ Công nghiệp và Công nghệ Thông tin Trung Quốc (MIIT) đã công bố danh sách các công cụ mới nhằm khuyến khích các nhà sản xuất chip trong nước sử dụng, trong bối cảnh Trung Quốc đang nỗ lực giảm sự phụ thuộc vào công nghệ nước ngoài. Danh sách này bao gồm một loạt các công cụ được sử dụng trong nhiều giai đoạn khác nhau của quy trình sản xuất, từ sản xuất mạch tích hợp đến khai thác mỏ và luyện kim. Đặc biệt, hai máy quét thạch bản trong danh sách này đã thu hút sự chú ý của giới truyền thông quốc tế, được xem như một dấu hiệu cho thấy những tiến bộ mới nhất của Trung Quốc trong công nghệ bán dẫn.

Những hạn chế và khả năng thực tế

Một trong hai máy quét sử dụng nguồn sáng krypton-fluoride (KrF) với bước sóng 248 nm và độ chính xác lên tới 25 nm, hỗ trợ độ phân giải sản xuất là 110 nm trên các tấm wafer 12 inch.

Hệ thống còn lại sử dụng nguồn sáng argon fluoride (ArF) tiên tiến hơn với bước sóng 193nm và độ chính xác 8nm, hỗ trợ độ phân giải sản xuất là 65nm trên các tấm wafer 12 inch. Được biết, để sản xuất chip 5nm và 3nm, mức độ phân giải sản xuất cần thiết sẽ là 30 - 32nm và 21 - 25nm.

Tuy nhiên, MIIT không tiết lộ nhà sản xuất của những máy quét này, cũng như khả năng sản xuất các tấm wafer mỗi giờ. Quan trọng hơn, tài liệu của MIIT không cung cấp thông tin chi tiết về khả năng căn chỉnh tính năng của các máy quét, một yếu tố then chốt để đánh giá mức độ tiên tiến của chúng. Điều này đặt ra câu hỏi về khả năng thực sự của các thiết bị này trong việc sản xuất chip ở quy mô thương mại.

Nhiều nhà phân tích cho rằng các máy quét mới của Trung Quốc có thể chưa đủ khả năng sản xuất chip với độ chính xác ở mức 8 nm như đã tuyên bố.

Thách thức trong việc thu hẹp khoảng cách công nghệ

Một kỹ sư của ASML cho biết: “Với cùng một công cụ, TSMC có thể sản xuất chip tiến trình 7 nm, trong khi Tập đoàn sản xuất chất bán dẫn quốc tế của Trung Quốc đại lục chỉ có thể sản xuất chip tiến trình 16 nm”. Điều này cho thấy, mặc dù Trung Quốc có thể sở hữu công nghệ quang khắc hiện đại, nhưng khả năng đạt được năng suất cao hơn vẫn phụ thuộc lớn vào kỹ năng và kinh nghiệm của nhà sản xuất.

Dù không thể cung cấp các hệ thống tiên tiến nhất của mình cho Trung Quốc, ASML vẫn ghi nhận doanh số bán hàng tại quốc gia này chiếm tới 49% tổng doanh thu của công ty trong quý 2. Điều này cho thấy dù bị hạn chế về khả năng tiếp cận công nghệ cao cấp, các nhà máy đúc của Trung Quốc vẫn đang tích cực sử dụng và tích trữ thiết bị ASML, nhằm chuẩn bị cho các lệnh hạn chế ngày càng gia tăng từ Mỹ.

Tuy nhiên, sự phát triển của công nghệ trong nước vẫn là một thách thức lớn đối với Trung Quốc. Shanghai Micro Electronics Equipment, nhà sản xuất máy quang khắc hàng đầu Trung Quốc, cho đến nay vẫn chưa thể sản xuất hàng loạt các con chip trên tiến trình 28nm, cho thấy Trung Quốc còn phải đối mặt với nhiều khó khăn trong việc thu hẹp khoảng cách công nghệ so với các đối thủ trên toàn cầu.

Theo SCMP